近段时间，日本与韩国贸易摩擦不断升级。
7月份，日本突然出手，宣布限制对韩国出口的高纯氟化氢、氟聚酰亚胺和光刻胶，这3种半导体材料是智能手机、芯片等产品的重要原材料。此举可谓是对韩国的“精准打击”。
日本限制出口的高纯氟化氢到底有多难生产？
首先，氟化氢是一种有毒、无色有刺激性气味的气体，遇水溶解，形成氢氟酸。氢氟酸属于弱酸，具有特殊腐蚀性。
这种特殊腐蚀性能腐蚀其他强酸所不能腐蚀的玻璃、单晶硅等半导体材料。因此，在半导体生产工艺中起着重要应用。
氢氟酸其主要原料是萤石，要进行生产其实并不难。
那么此次日本制裁韩国，为何韩方叫苦连天呢？
原来，半导体生产过程中所要用到的氢氟酸并不是普通的氢氟酸，而是超高精纯的电子级氢氟酸。
由于普通工业级氢氟酸含有大量杂质，倘若用来生产半导体，基本上只能生产出废品来。因为芯片生产容不得过多的杂质，普通工业级氢氟酸含有的杂质对芯片生产影响十分大。
那么问题来了，半导体生产中所需的高纯氟化氢要求多纯呢？
据了解，日本生产的最高纯度的氢氟酸纯度为99.9999999999%，这个纯度的高纯氟化氢，在目前最先进的芯片生产工艺中都能够完全适配，这也是韩国极度依赖从日本进口高纯氟化氢的重要原因了。
相比之下，中国目前能生产的最高纯度比这个纯度要低十倍左右，而这只是其中一个指标，此外还要控制粒径、颗粒个数等指标。
氟化氢的生产并不难，但要想应用到电子行业，就必须做到非常精密的提纯，而难就难在了提纯上。
现行的提纯手法主要是利用氟化氢的挥发性以及不同物质沸点不同，采用精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术对氟化氢进行纯化。
在此过程中，要把三价砷的氟化物氧化成五价，避免它跟着氟化氢一起蒸馏出来。然后用高纯水溶解氟化氢，再过超滤膜过滤杂质，最后进行检验和无尘灌装。
在技术方面，中国是完全有能力生产高纯度氟化氢的。但最大的困难在整个氟化氢产业链条上，高纯度氟化氢的生产对技术和工艺的要求都非常高，操作中相应设备的运行和操作需要紧密结合才能减少由于操作失误或者不够精确对于氢氟酸的提取产生影响。并且需要长期的测试。
同时，氟化氢无法长期保存囤货。不仅如此，韩国几乎无法抛开日本去寻求替代品，因为纯度能够达到半导体制造业使用需求的主要是日本企业，其中日企占据的份额高达90%。难怪韩国会对此如此忌惮了。
此外，氟化氢还常用于氟碳化合物生产、冶金工业、石油化工等行业的生产。